크롬
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크롬

크롬 타겟

크롬 타겟,Cr 타겟,크롬 스퍼터링 타겟
순도: 99.5%-99.99%
직사각형 타겟, 원형 타겟, 회전 타겟
성형 공정 : 열간 등방성 프레스(HIP)
기존 사이즈 : ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm 등
응용분야: 장식용 코팅, 공구용 코팅, 평판 디스플레이 코팅, 박막 태양열 산업, 평판 디스플레이 산업, 에너지 절약 유리 산업, 광학 코팅 산업(예: 자동차 백미러 코팅) 등

제품 소개

사양

순도 : 99.5%~99.95%;

성형 공정 : 열간 등방성 가압(HIP)

일반 크기: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm 등.

응용분야: 장식용 코팅, 공구용 코팅, 평판 디스플레이 코팅, 박막 태양광 산업, 평판 디스플레이 산업, 에너지 절약형 유리 산업, 광학 코팅 산업(예: 자동차 백미러 코팅) 등.

크롬

제품 성능

청정

99.5

99.95

밀도 g/cm3

7.12 이상

7.12 이상

입자 크기/μm

100 이하

100 이하

금속불순물 총함량/ppm

5000 이하

500 이하

열전도도/W/mK

60

100

열팽창계수/1/K

8×10-6

8×10-6

크기/mm

평면

1600×500 이하

1600×500 이하

회전

HIP에 의한 일체형 성형
길이 4000 이하
두께 15 이하

HIP에 의한 일체형 성형
길이 4000 이하
두께 15 이하

2N5(미량원소)PPM 7.12g/cm3 이상

구성

C

S

O

N

기준

1500 이하

1200 이하

1500 이하

200 이하

50 이하

1400 이하

300 이하

테스트 값

980

300

600

62

50

1200

200

2N8(미량원소)PPM 7.12g/cm3 이상

구성

C

S

O

N

기준

800 이하

300 이하

400 이하

200 이하

50 이하

1000 이하

100 이하

테스트 값

740

78

92

84

50

340

30

3N(미량원소)PPM 7.12g/cm3 이상

구성

C

S

O

N

기준

500 이하

100 이하

150 이하

150 이하

30 이하

500 이하

100 이하

테스트 값

290

47

80

90

28

450

50

3N5(미량원소)PPM 7.12g/cm3 이상

구성

Ni

C

S

O

N

기준

100 이하

50 이하

50 이하

10보다 작거나 같음

50 이하

50 이하

30 이하

150 이하

80 이하

테스트 값

50

45

40

7

10

24

27

137

30

고순도 크롬 입자: 일반적으로 사용되는 입자 크기는 다음과 같습니다: 1-3mm, 3-5mm, 40메시, -20-300메시, 40#, 60#, 80#, 200# 등 증발 코팅, 고순도, 좋은 증발 효과.

적용 사례

크롬 스퍼터링 타겟은 일반적으로 물리 기상 증착(PVD) 및 마그네트론 스퍼터링과 같은 박막 증착 공정에서 사용됩니다. 이러한 공정은 반도체, 전자, 항공우주 및 자동차를 포함한 다양한 산업에서 다양한 목적으로 기판에 얇은 재료 층을 증착하는 데 사용됩니다. 재료의 특성을 향상시키거나 특정 표면 마감을 만드는 것과 같은 목적입니다.

우수한 접착력, 높은 녹는점을 가지고 있으며 화학적으로 안정적이어서 이러한 공정에 사용하기에 이상적입니다. 유리, 금속, 세라믹과 같은 다양한 기질에 크롬의 얇은 필름을 증착하여 다양한 기능적 및 장식적 코팅을 만드는 데 사용됩니다.

크롬 Cr 타겟의 한 가지 응용 분야는 반도체 산업으로, 전극 상호 연결, 배리어 층, 오믹 접촉과 같은 다양한 목적을 위해 크롬의 박막 층을 만드는 데 사용됩니다. 이러한 층은 반도체 소자의 필수 구성 요소이며, 그 특성은 소자의 성능과 신뢰성에 큰 영향을 미칠 수 있습니다.

항공우주 및 자동차 산업에서는 터빈 블레이드, 배기 시스템 등의 엔진 구성품에 보호 코팅을 생성하여 내구성과 고온 환경에 대한 저항성을 개선하는 데 사용됩니다.

전자 산업에서 Cr 스퍼터링 타겟은 디스플레이, 터치스크린 등의 다양한 기판에 박막을 증착해 성능과 내구성을 향상시키는 데 사용됩니다.

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