갈바닉 증착용 티타늄 양극

갈바닉 증착을 위한 티타늄 양극

산업 및 민간용 금속의 전기 도금 분야에서는 활성화된 금속을 사용할 수 있는 다양한 가능성이 있습니다.티탄가용성 양극을 대체하여 양극으로 사용합니다.

지금까지 수년간 와트 또는 설파메이트 욕조와 산성 구리 도금 욕조에서 니켈 농도를 안정화하는 보조 양극으로 사용되어 왔습니다.

백금 도금 티타늄을 대체하여 동일한 성능을 보이는 금도금, 백금 도금, 로듐 도금 및 니켈/팔라듐 도금 욕조에 직접 사용하는 것은 비용이 훨씬 더 많이 듭니다.

예를 들어 아연/니켈 종류의 최근 합금 증착 욕조에서도 활성화된 티타늄만이 사용됩니다.

3가 크롬을 기반으로 하는 최신 장식용 크롬 도금 욕조에서는 이 양극을 사용하는 것이 필수적이며, 이 코팅은 증착된 크롬의 성능과 품질에 부정적인 영향을 미치는 6가 크롬의 형성을 최소한으로 줄이도록 특별히 설계되었습니다.

6가 크롬을 사용한 하드 크롬 도금에서 활성화된 티타늄은 특정 양극 기하 구조가 필요한 경우에 사용되며, 이는 납 합금의 고전적 양극에서는 재현할 수 없습니다. 그러나 음극에 형성되는 원치 않는 3가 크롬을 재산화하기 위해 납 양극을 함께 사용하는 것을 고려해야 합니다. 사실, 이 반응은 활성화된 티타늄이 낮은 양극 전위로 인해 생성되지 않습니다.

우리는 각 공정에 적합한 모든 유형의 코팅을 제조할 수 있으며, 고객의 도면에 따라 애노드를 구축하거나 자체 솔루션을 제안합니다. 또한 고객이 직접 생산한 애노드를 활성화할 수도 있습니다.

전기 아연 도금용 티타늄 양극

이 공정은 약산성 황산 아연 용액으로부터 전기분해로 아연 도금된 철 코일을 생산하는 철강 산업에 확산됩니다.

약 600~1400mm의 가변 폭을 가진 코일은 음극 분극 하에서 일련의 전해 셀을 빠르게 통과합니다. 양극은 용해성 아연, 납 또는 활성화된 티타늄일 수 있습니다. 후자는 크기가 안정적이고, 가볍고, 욕조에 오염되지 않으며, 유지 관리가 필요 없고, 납에 비해 산소 방전에 대한 과전압이 낮아 에너지를 절약할 수 있기 때문에 다른 것들과 비교하여 상당한 이점이 있습니다.

공정에 필요한 극도의 근접성(<1cm)으로 인해 코일과 양극 사이의 잦은 접촉으로 인해 단락이 발생하고, 이로 인해 손상이 발생하여 코팅의 성능과 지속 시간이 저하됩니다.

우리는 이런 종류의 변형에 특히 강한 코팅을 개발했는데, 이는 단락으로 인한 국부적 극성 반전에 따라 수동화 및 보호 TiO2 층을 잃고 부식되는 경향이 있으며, 이어서 코팅 층이 분리되는 티타늄 기반에 보호 작용을 합니다.

이 코팅의 특수한 구성은 이리듐, 탄탈륨, 산화주석으로 이루어져 있으며, 특히 컴팩트하여 티타늄 기반을 용액에서 아주 잘 분리할 수 있고, 따라서 용액 자체의 산의 공격을 차단하는 장벽 역할을 합니다.

전기주석도금용 티타늄 양극

이 과정은 여러 면에서 전기주석도금과 유사합니다. 이 경우 증착되는 물질은 주석입니다.

대부분의 공장에서는 용해성 주석 양극이 사용되는 반면, 불용성 활성화 티타늄 양극은 용액 내 주석 농도의 균형을 재조정하기 위해 1~2개의 셀에만 삽입되었습니다. 이는 양극에 비해 낮은 음극 효율을 증가시키는 경향이 있습니다.

최근 몇 년 사이에 불용성 양극만 사용하고 납은 전용 용해기에서 따로 용해하는 시스템이 개발되었습니다.

메탄설폰산(MSA)과 페놀설폰산(PSA)으로 구성된 용액의 공격성은 이리듐 산화물의 소모 속도를 증가시키는 경향이 있으며, 나아가 양극에 수동화 납 산화물의 일부 "오버코팅"을 생성하는 경향이 있으므로, 오버코팅의 그립을 방해하는 기본 거칠기에 대한 특정 코팅 제형과 특수 처리를 설계할 필요가 있었습니다.

MSA와 PSA 케이스 모두에 대해 코팅 솔루션을 제공할 수 있습니다.

더욱이 고객의 도면에 따라 애노드를 제작하거나 마모된 애노드에만 재코팅 서비스를 제공합니다.

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